微观相场法模拟Ni75Al5.3V19.7中L12和D022结构反位缺陷的演化

摘要：

运用微观相场法研究Ni75Al5.3V19.7合金沉淀过程中L12结构和D022结构反位缺陷发现:在沉淀初期,L12结构反位缺陷AlNi,Vni,NiA1,D022结构反位缺陷Vni,AlNi,Ni,AlV的浓度均从初始高度反位状态随沉淀过程的进行逐渐减小并趋于一平衡值;沉淀中后期,L12结构和D022结构长大,反位缺陷浓度始终保持平衡,平衡时L12结构的α格点反位缺陷AlNi,Vni,D022结构的α格点反位缺陷VNI,AlNI的浓度均在10-2数量级,Ll2结构和D022结构的β格点的反位缺陷NiA1,NiV,的浓度在10-1数量级,NiAl,NiV反位缺陷分别是这两种结构的主要反位缺陷类型;第三组元在有序相中有择优占位倾向,V原子优先占据L12:结构的β格点,Al原子优先占据D022结构的α格点.

关键词：微观相场、反位缺陷、L12结构、D022结构

所属期刊栏目：58

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金50671084;陕西省自然科学基金的课题

在线出版日期：2009-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：631-637