CuO薄膜的三阶非线性光学特性研究

摘要：

采用脉冲激光沉积技术在Si(100)和熔石英基片上制备了单相的CuO薄膜.通过X射线衍射仪,拉曼光谱仪,场发射扫描电镜和紫外可见光光度计对薄膜的结构,表面形貌和光学性质进行了表征.场发射扫描电镜结果表明CuO薄膜中晶粒排列致密且分布均匀,其尺寸约为45 nm.结合飞秒激光(800 nm,50 fs)和Z扫描方法测量了薄膜的三阶非线性光学特性,结果表明CuO薄膜具有超快的非线性光学响应且非线性折射率和非线性吸收系数均为负值,其大小分别为-3.96×10 17 m2/W和-1.69×10-10m/W.表明CuO薄膜在超快光开关等非线性光学器件方面具有潜在的应用前景.

关键词：CuO薄膜、Z-扫描、三阶光学非线性

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分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金10604018;高等学校博士学科点专项科研基金20060487006

在线出版日期：2009-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：607-611