高电荷态离子与Si(110)晶面碰撞的沟道效应研究

摘要：

不同电荷态低速离子(Arq+,Pbq+)轰击Si(110)晶面,测量不同入射角情况下的次级粒子的产额.通过比较溅射产额与入射角的关系,证实沟道效应的存在.高电荷态离子与Si相互作用产生的沟道效应说明溅射产额主要是由动能碰撞引起的.在小角入射条件下,高电荷态离子能够增大溅射产额.当高电荷态离子以40°-50°入射时,存在势能越高溅射产额越大的势能效应.

关键词：高电荷态离子、溅射、沟道效应

所属期刊栏目：57

分类号：O56(分子物理学、原子物理学)

资助基金：国家自然科学基金10475035

在线出版日期：2008-06-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：2161-2164