直拉硅单晶中原生氧沉淀的透射电镜研究

摘要：

利用透射电镜对掺氮(NCZ)和普通(CZ)直拉硅单晶中的原生氧沉淀进行研究.研究表明,在NCZ样品中,有高密度的粒径为5 nm的氧沉淀生成,而在CZ样品中,没有观察到这种氧沉淀.初步认为,这种细小的氧沉淀是以650℃低温下形成的N-O复合体为核心在随后的冷却过程中形成.

关键词：直拉硅、透射电镜、氧沉淀

所属期刊栏目：56

分类号：O6(化学)

资助基金：厦门大学科研启动经费0000-X07157;国家自然科学基金50572094;福建省高等学校新世纪优秀人才支持计划0000-X07201

在线出版日期：2007-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：4113-4116