含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(I)sp结构与化学键分析

摘要：

以CF4,CH4和N2为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同功率下制备了含氮氟化类金刚石·膜.用俄歇电子能谱、拉曼光谱、X射线光电子能谱和傅里叶变换红外光谱对薄膜的电子结构和化学键进行了表征,并结合高斯分峰拟合方法分析了薄膜中sp2,sp3结构比率.结果表明,制备的薄膜属于类金刚石结构,不同沉积功率下,薄膜内的sp2/sp3值在2.0-9.0之间,随着沉积功率的增加薄膜内sp2的相对含量增加.膜内主要有c-Fx(x=1,2),C-C,C-C 和 C≡N 等化学键.沉积功率增加,C-C基团增加,膜内F的浓度降低,C-F基团减少,薄膜的关联加强,稳定性提高.

关键词：含氮氟化类金刚石膜、sp结构、化学键结构、射频功率

所属期刊栏目：56

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2007-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1802-1808