沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响

摘要：

采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关,当温度为750 ℃,碳源浓度为0.9%和压强为4.0 kPa时,金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳,折射率平均值为2.385,消光系数在10-4范围内,在红外波段具有良好的透过性.

关键词：薄膜光学、红外光学性质、工艺条件、金刚石薄膜

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分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金60577040;上海市纳米科技专项基金0452nm051;上海市应用材料研究与发展基金0404;上海市重点学科建设项目T0101

在线出版日期：2006-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：5145-5149