微晶硅薄膜的结构及光学性质的研究

摘要：

借助RF-PECVD辅助RTP技术,采用高沉积气压的技术路线制备了优质的微晶硅薄膜,并利用拉曼光谱、反射谱和透射谱分别研究了微晶硅的晶化率和光学性质.实验中发现微晶硅的吸收边出现了相对红移,此相对红移可归结于薄膜晶化率的提高和带尾态密度的降低.

关键词：微晶硅、拉曼光谱、快速热处理、红移

所属期刊栏目：55

分类号：O57(原子核物理学、高能物理学)

在线出版日期：2006-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：98-101