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10.3321/j.issn:1000-3290.2005.12.072

不同氮源制备CNx纳米管薄膜及其低场致电子发射性能

引用
采用高温热解法,分别以氯化铵(NH4Cl)和乙二胺(C2H8N2)为氮源在洁净的硅片上沉积生长CNx纳米管薄膜.利用扫描电子显微镜、高分辨率透射电子显微镜和拉曼光谱对CNx纳米管进行形貌观察和表征.结果显示不同氮源制备出的CNx纳米管薄膜的洁净度、有序度以及纳米管的结构明显不同.热解乙二胺(C2H8N2)/二茂铁(C10H10Fe)制备出的结晶度较低的"竹节状"结构CNx纳米管平行基底表面有序生长,而且低场致电子发射性能优越,开启电场1.0V/μm,外加电场达到2.89V/μm时发射电流密度为860μA/cm2.

CNx纳米管、高温热解、"竹节状"结构、场致发射

54

O4(物理学)

河南省高校杰出科研创新人才工程项目1999-125;郑州航空工业管理学院校科研和教改项目Q01G019

2005-12-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

5926-5930

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物理学报

1000-3290

11-1958/O4

54

2005,54(12)

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