纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析

摘要：

用金属蒸汽真空弧源,以40 kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016-1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30 nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射.

关键词：纯锆、钇和镧离子共注入、卢瑟福背散射、x射线光电子能谱

所属期刊栏目：54

分类号：O4(物理学)

资助基金：科技部科研项目G2000067207-1

在线出版日期：2005-12-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：5914-5919