10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.083
反应离子刻蚀ZnTe的THz辐射和探测研究
运用电光采样技术揭示了反应离子刻蚀(RIE)ZnTe晶体表面THz辐射的光学整流产生机制,观察到0.25ps的THz场分布.通过比较刻蚀前后以及不同刻蚀条件下ZnTe样品在不同激发功率下的THz辐射强度,发现由于反应离子刻蚀破坏了ZnTe样品表面的有序性,晶体的电光系数随射频功率的增加而减小.借助于计算不同刻蚀条件下ZnTe晶体的频率响应函数,分析了随射频功率增加ZnTe晶体响应频谱展宽的现象.
THz辐射、反应离子刻蚀、ZnTe
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O4(物理学)
国家自然科学基金10125416;上海市重点基础研究项目03JC14082
2005-11-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
4938-4943