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10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.083

反应离子刻蚀ZnTe的THz辐射和探测研究

引用
运用电光采样技术揭示了反应离子刻蚀(RIE)ZnTe晶体表面THz辐射的光学整流产生机制,观察到0.25ps的THz场分布.通过比较刻蚀前后以及不同刻蚀条件下ZnTe样品在不同激发功率下的THz辐射强度,发现由于反应离子刻蚀破坏了ZnTe样品表面的有序性,晶体的电光系数随射频功率的增加而减小.借助于计算不同刻蚀条件下ZnTe晶体的频率响应函数,分析了随射频功率增加ZnTe晶体响应频谱展宽的现象.

THz辐射、反应离子刻蚀、ZnTe

54

O4(物理学)

国家自然科学基金10125416;上海市重点基础研究项目03JC14082

2005-11-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

4938-4943

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物理学报

1000-3290

11-1958/O4

54

2005,54(10)

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