10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.063
硅晶体中点缺陷结合过程的分子动力学研究
采用分子动力学方法模拟研究了硅晶体中的空位和间隙原子的结合过程.研究中采用了Stilliget-Weber三体经验势描述原子间的相互作用,系统分别在低温300K和高温1400K进行弛豫.计算中发现空位和间隙原子倾向于通过<111>方向结合,而<110>方向上存在着势垒.通过势垒值的计算,对Tang和Zawadzki势垒计算值的差异进行了解释.
分子动力学、空位与间隙原子、扩散
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O4(物理学)
国家重点基础研究发展计划973计划TG2000067104
2005-11-10(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共9页
4827-4835