10.3321/j.issn:1000-3290.2005.08.081
类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究
利用电化学方法在室温下成功地沉积了类金刚石(DLC)薄膜和非晶CNx薄膜,并对制备条件进行了讨论.通过扫描电子显微镜、傅里叶变换红外光谱技术,分析了薄膜的表面形貌和化学结合状态.场发射测量结果表明:DLC膜和非晶CNx的开启场分别为8.8和10 V/μm;并且在23 V/μm的电场下,DLC膜和非晶CNx膜的发射电流密度分别达到10和0.37mA/cm2.
电化学沉积、类金刚石薄膜、CNx薄膜、场致电子发射
54
O4(物理学)
2005-09-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
3935-3939