10.3321/j.issn:1000-3290.2005.08.077
微晶硅薄膜的制备及结构和稳定性研究
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜.利用傅里叶变换红外吸收对制备薄膜进行了结构方面的测试分析.结果表明:随衬底温度的升高,材料中的氢含量总的趋势下降;傅里叶变换红外吸收和二次离子质谱测试结果都显示薄膜中氧含量随衬底温度的升高而增加(在1019cm-3量级);与高衬底温度相比,低衬底温度制备的材料易于后氧化,这说明低温制备材料的稳定性不好.
甚高频等离子体增强化学气相沉积、微晶硅薄膜、傅里叶变换红外吸收
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O4(物理学)
国家重点基础研究发展计划973计划G2000028202,G2000028203;教育部国际科技合作项目2002DFG00051;国家高技术研究发展计划863计划2002AA303261
2005-09-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
3910-3914