Ti-Si-N复合膜的界面相研究

摘要：

为了揭示Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相的存在方式及其对薄膜力学性能的影响,采用x射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、俄歇电子能谱仪和显微硬度仪对比研究了磁控溅射Ti-Si-N复合膜和TiN/Si3N4多层膜的微结构和力学性能.实验结果表明,Ti-Si-N复合膜均形成了Si3N4界面相包裹TiN纳米晶粒的微结构.其中低Si含量的Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相的厚度小于1nm,且以晶体态存在,薄膜呈现高硬度.而高Si含量的Ti-Si-N复合膜中的Si3N4界面相以非晶态存在,薄膜的硬度也相应降低.显然,Ti-Si-N复合膜中Si3N4界面相以晶体态形式存在是薄膜获得高硬度的重要微结构特征,其强化机制可能与多层膜的超硬效应是相同的.

关键词：Ti-Si-N复合膜、界面相、微结构、超硬效应

所属期刊栏目：54

分类号：O4(物理学)

资助基金：上海市纳米科技专项基金0352nm084

在线出版日期：2005-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：3774-3779