VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究

摘要：

采用拉曼散射光谱和PR650光谱光度计对VHF-PECVD制备的微晶硅薄膜进行了结构表征和在线监测研究.结果表明：功率对材料的晶化率(xc)有一定的调节作用,硅烷浓度大,微调作用更明显;SiH*的强度只能在一定的范围内表征材料的沉积速率,功率大相应的速率反而下降;I[Hα*]/I[SiH*]强度比值反映了材料晶化程度,此结果和拉曼散射光谱测试结果显示出一致性;I[Hβ*]/I[Hα*]的强度比表明氢等离子体中的电子温度随功率的增大而逐渐降低.

关键词：甚高频等离子体增强化学气相沉积、微晶硅、拉曼散射谱、光发射谱

所属期刊栏目：54

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划G2000028202,G2000028203;教育部科学技术研究项目02167;国家高技术研究发展计划863计划2002AA303261

在线出版日期：2005-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：445-449