溅射粒子能量对金属Mo薄膜表面特性的影响

摘要：

@@ 利用原子力显微镜研究了不同溅射离子能量对Mo薄膜表面形貌的影响.利用特殊设计的夹具,在同一真空内完成所有薄膜样品的制备,减少了多次沉积过程对薄膜生长特性的影响.对原子力显微镜测量得到的表面高度数据进行相关运算,从统计角度定量地研究了不同沉积能量下Mo薄膜表面特性.结果表明,薄膜表面具有典型的分形特征,在相关运算的基础上给出了表面的分形维数、水平相关长度、界面宽度等参数.其中,屏栅电压为500 V时制备的薄膜样品与300和700 V时制备的薄膜样品表面的界面宽度及水平相关长度具有倍数差别,但三种溅射电压下薄膜表面的分形维数均接近于2.分形维数表明Mo薄膜生长过程可以用Mullins扩散模型来描述.另外,采用俄歇测试技术对薄膜深度方向的组分进行了分析.

关键词：离子束溅射、钼、薄膜、分形

所属期刊栏目：53

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2005-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：4398-4404