自聚焦克尔类电介质中非傍轴光束调制非稳的研究

摘要：

将非傍轴效应等效为四阶空间色散、五阶非线性效应和自陡峭效应加以处理.利用线性稳定法研究非傍轴光束在非线性克尔介质中的传播稳定性.理论分析和数值模拟均表明,入射功率P0和非傍轴参量a决定非傍轴光束调制非稳增益谱呈现出三种不同的分布规律,并给出相应判据以区分三种不同分布.

关键词：非傍轴光束、调制非稳、增益谱、克尔介质

所属期刊栏目：53

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金60177020;上海市教委资助项目

在线出版日期：2004-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：1088-1094