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10.3321/j.issn:1000-3290.2004.03.043

类富勒烯纳米晶CNx薄膜及其场致电子发射特性

引用
利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx薄膜,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx薄膜的微结构和成分进行了分析.研究了其场致电子发射特性.发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关,当甲烷、氢气及氮气流量比为8/50/50sccm时,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构(类富勒烯结构)和很好的场发射特性.场发射阈值电场降低至1.1V/μm.当电场为5.9V/μm时,平均电流密度达70μA/cm2,发射点密度大于1×104cm-2.

类富勒烯、CNx薄膜、场致电子发射、微波等离子体增强化学气相沉积

53

O4(物理学)

国家高技术研究发展计划863计划715-002-0042;国家自然科学基金60278035

2004-04-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

883-887

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1000-3290

11-1958/O4

53

2004,53(3)

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