ECR-CVD制备的非晶SiOxNy薄膜的光致蓝光发射

摘要：

使用90%N2稀释的SiH4与O2作为前驱气体,利用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)方法制备了非晶氮氧化硅薄膜(a-SiOxNy).红外吸收光谱的结果表明,a-SiOxNy薄膜主要由Si-O-Si和Si-N键的两相结构组成,在存在氧流量的情形下,薄膜主要成分是SiOx相,而在无氧流量的情形下,薄膜则主要是SiNx相.使用5.65eV的紫外光激发,发现SiOxNy薄膜出现了位于460nm的光致蓝光主峰,且其发光强度随着氧流量的降低而显著增强.根据缺陷态发光中心和SiNx蓝光发射能隙态模型,讨论了其发光机理,认为在低N含量时,蓝光发射是由于SiOx中的氧空位缺陷引起的;在高N含量时,蓝光发射强度的大幅度增强是由于SiNx的缺陷态中电子和空穴的辐射复合引起的.

关键词：ECR-CVD、红外吸收光谱、非晶氮化硅薄膜、光致发光

所属期刊栏目：52

分类号：O4(物理学)

资助基金：苏州大学校科研和教改项目T2108102

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1287-1291