nc-Si/SiO2多层膜的制备及蓝光发射

摘要：

在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中,采用a-Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a-Si∶H/SiO2多层膜 (ML);利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a-Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc-Si/SiO2 ML,并观察到室温下的蓝光发射;结合Raman散射和剖面透射电子显微镜技术分析了nc-Si/SiO2 ML的结构特性;通过对晶化样品光致发光谱和紫外-可见光吸收谱的研究,探讨了蓝光发射的起源.

关键词：纳米硅多层膜、等离子体氧化、蓝光发射、热退火

所属期刊栏目：52

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划973计划10174035,90101020,2001CB610503;江苏省自然科学基金BK2001028和BG2001002

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：989-992