非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

摘要：

用原子力显微镜测定了Si/TiN/Pd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni-13.1wt%Cu-9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的.

关键词：多重分形谱、Ni-Cu-P合金、化学沉积、AFM图像

所属期刊栏目：51

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家科技攻关项目96-A23-0-02

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：999-1003