10.3321/j.issn:1000-3290.2002.02.045
ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在 N2气氛中的热退火研究
改变CHF3-CH4源气体流量比,使用微波电子回旋共振化学气相沉积方法(ECR-CVD)制备了具有不同C-F键结构的a-C:F:H薄膜,着重研究了退火对其结构的影响.结果显示薄膜的厚度及其光学带隙E04随退火温度的上升均呈现了不同程度的下降.借助于红外吸收光谱和所提出的热解模型解释了产生这种关系的结构上的根源.
电子回旋共振化学气相沉积、红外吸收光谱、热退火、光学带隙
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O4(物理学)
江苏省教育厅自然科学基金
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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