10.3321/j.issn:1000-3290.2002.02.028
有机衬底SnO2:Sb透明导电膜的制备与特性研究
常温下,采用射频磁控溅射法在有机的柔性衬底上制备出了SnO2:Sb透明导电膜,并对薄膜的结构和光电性质进行了研究.制备的样品为多晶薄膜,并且保持了二氧化锡的金红石结构.性能良好的薄膜电阻率为6.5×10-3Ω*cm,载流子浓度为1.2×1020cm-3,霍耳迁移率是9.7cm2*V-1*s-1.薄膜在可见光区的平均透过率达到了85%.
柔性衬底、SnO2:Sb透明导电膜、射频磁控溅射法
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O4(物理学)
高等院校骨干教师基金
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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