10.3321/j.issn:1000-3290.2001.05.013
氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究
用椭偏仪、傅氏变换红外吸收谱(FT-IR)、X射线光电子能谱(XPS)以及原子力显微镜(AFM)对N+1,N+2,N+10离子高剂量(1.7×1017 ions/cm2)注入Si(111)的表面进行测试分析,发现三种不同尺度的离子注入后,均使Si由复折射率变化为实折射率,表面出现含氮-硅键的介质层.但其表面形貌各异:N+1注入的表面除存在少量点蚀坑外,光洁度最高(平均粗糙度Ra≈4.2nm),接近未注入前的原始表面(Ra≈3.5nm);N+2注入的出现黑色枝状区域,光洁度次之(Ra≈16nm),而N+10注入的则出现“波纹”状结构,光洁度最差(Ra≈40nm).与低能团簇注入相反,在高能条件下,随着离子尺度和注量增加,材料表面的粗糙度也越严重.
氮团簇注入、表面特性
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O4(物理学)
国家自然科学基金19735004、19575033;高等学校博士学科点专项科研项目2000061017;教育部科学技术研究项目1997[129]
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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