10.3321/j.issn:1000-3290.2000.11.020
多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响
用多弧离子镀技术在铜基上电镀Cr/Ni层进行不同工艺条件下多弧离子沉积TiN/Ti实验.借助X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了TiN/Ti与Cr/Cu接触界面形成、微结构及其组分与形貌.XRD分析显示,薄膜表面组分包含TiN,Ti2N多晶相外,还包含一些Cr-Ti的金属间化合物等.显然,TiN,Ti2N在表面上已形成.SEM观察指出,在90℃制备的表面膜具有不平整的类枝状结晶结构.随着温度升高至170℃,得到精细TiN/Ti覆盖层表面,XRD峰强度增大.
多弧离子镀、氮化钛、界面形成、微结构
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O4(物理学)
福建省自然科学基金F99031;国家重点实验室基金
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
2220-2224