10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.027
传输线模型测量Au/Ti/p型金刚石薄膜的欧姆接触电阻率
采用传输线模型测量了重B掺杂p型金刚石薄膜(约1020cm-3)上Ti/Au欧姆接触电阻率ρc,测试了500℃退火前后及大电流情况下的I-V特性,研究了退火对ρc的影响.结果表明,重掺杂和退火工艺是改善欧姆接触的有效手段.ρc随测试温度的变化表明金属/半导体接触界面载流子输运机制为隧道穿透.而光照对ρc影响的分析表明金刚石可作为理想窗口材料.测试得到的最低ρc值约为10-4Ωcm2.
金刚石薄膜、欧姆接触、接触电阻率
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O4(物理学)
中国科学院资助项目69676005
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1348-1351