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10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.024

金属-氧化物-半导体器件γ辐照温度效应

引用
研究了金属-氧化物-半导体(MOS)器件在γ射线辐照条件下的温度效应.采用加固的CC4007进行辐照实验,在不同温度、不同偏压,以及不同退火条件下对MOS器件的辐照效应进行了比较,发现温度对辐照效应的影响主要是决定界面态建立的快慢.高温下辐照的器件,界面态建立的时间缩短.根据实验结果对器件阈值电压漂移的机理进行了探讨.

金属-氧化物-半导体场效应、辐射效应、阈值电压漂移

49

O4(物理学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

1331-1334

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物理学报

1000-3290

11-1958/O4

49

2000,49(7)

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