10.3321/j.issn:1000-3290.2000.03.028
类Ni-Nd X射线激光靶表面氧化研究
用磁控溅射镀膜法制备了Nd靶,研究了Nd靶在不同环境气氛下的氧化过程,并利用X射线光电子能谱、原子力显微镜对表面氧化物的化学态、表面形貌进行了分析和研究,得出Nd靶防氧化主要是防止表面的氢氧化这一结论.
射线、激光靶、表面氧化物、USED IN、原子力显微镜、光电子能谱、磁控溅射镀、氧化过程、膜法制备、环境气氛、表面形貌、氢氧化、化学态、防氧化
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O4(物理学)
国家科技攻关项目863-410-3-9
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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