10.19655/j.cnki.1005-4642.2018.07.003
煤质检测系统D-T中子源屏蔽的MC模拟研究
构建了煤质检测系统D-T中子源采用的3层屏蔽结构:第1层采用铁、不锈钢、钨等不同慢化材料,第2层采用含不同碳化硼质量分数的聚乙烯,第3层采用铅.利用MCNP5程序计算了不同屏蔽结构的中子透射率和中子占比.模拟结果表明:第1层为25 cm厚钨,第2层采用含碳化硼质量分数为20% 的15 cm厚聚乙烯材料,第3层采用5 cm厚铅,屏蔽效果最佳.
MCNP5、中子、γ射线、屏蔽、透射率
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O571.53(原子核物理学、高能物理学)
2018-08-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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