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10.3969/j.issn.1005-4642.2014.06.001

衬底温度对磁控溅射制备掺铝氧化锌薄膜的结构和光电性能的影响

引用
利用射频磁控溅射在石英基片上沉积掺铝氧化锌薄膜,研究了衬底温度对薄膜结构和光电性能的影响.当给衬底加热时,X射线衍射观测(002)峰相对强度明显增强.在衬底温度250℃下制备的薄膜的晶粒尺寸最大,为24.9 nm ,表面粗糙度最小,为8.1 nm ,表明在衬底温度250℃下制备的薄膜的结晶效果最好.衬底温度从30℃升高到250℃,薄膜的电阻率相应地从14.35×10-4Ω· cm降低到7.18×10-4Ω· cm ,随着衬底温度的升高,电阻率反而增大.所有样品在可见光区的平均光学透射率都大于85%.引入品质因子分析薄膜的光电性能,当衬底温度为250℃时,品质因子最大为16.15×10-3Ω-1,其光电性能最好.

掺铝氧化锌薄膜、衬底温度、电阻率、透射率

TN3;TB3

2014-07-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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1005-4642

22-1144/O4

2014,(6)

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