激光刻蚀类球状微米金刚石聚晶薄膜对场致电子发射稳定性的影响
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1005-4642.2012.10.004

激光刻蚀类球状微米金刚石聚晶薄膜对场致电子发射稳定性的影响

引用
在覆盖金属钛层的陶瓷上,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜,并通过激光刻蚀金刚石聚晶薄膜的表面.利用扫描电子显微镜、拉曼光谱,X射线衍射分析了刻蚀前后的结构和表面形貌,测试了刻蚀前后薄膜的场致电子发射特性,发现激光的刻蚀对金刚石聚晶薄膜场致电子发射的稳定性有一定的提高,并对其制备过程及发射机理进行了研究.

微波等离子体、化学气相沉积、类球状微米金刚石聚晶薄膜、场致电子发射

32

TB383;O484(工程材料学)

教育部科学技术重点资助项目205091

2013-01-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

13-16

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

物理实验

1005-4642

22-1144/O4

32

2012,32(10)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn