10.3969/j.issn.1005-4642.2012.10.004
激光刻蚀类球状微米金刚石聚晶薄膜对场致电子发射稳定性的影响
在覆盖金属钛层的陶瓷上,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜,并通过激光刻蚀金刚石聚晶薄膜的表面.利用扫描电子显微镜、拉曼光谱,X射线衍射分析了刻蚀前后的结构和表面形貌,测试了刻蚀前后薄膜的场致电子发射特性,发现激光的刻蚀对金刚石聚晶薄膜场致电子发射的稳定性有一定的提高,并对其制备过程及发射机理进行了研究.
微波等离子体、化学气相沉积、类球状微米金刚石聚晶薄膜、场致电子发射
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TB383;O484(工程材料学)
教育部科学技术重点资助项目205091
2013-01-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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