10.3969/j.issn.1005-4642.2012.08.009
利用表面磁光克尔效应监测Ni薄膜生长的物相转变
利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜.表面磁光克尔效应研究表明:冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性,退火处理的Ni薄膜为铁磁性质,且无退火处理的Ni金属膜磁性随膜厚的增加而增强.分析认为,冷基底条件下Ni膜是非晶态生长,且膜内存有大量缺陷,经退火处理的Ni膜发生了重融再生长,形成了大颗粒结晶,膜内晶粒内缺陷大量消失.
Ni薄膜、磁控溅射、表面磁光克尔效应、非晶态生长、重融再生
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O436.4(光学)
2012-11-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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