溅射条件对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻的影响

摘要：

研究了基片温度和溅射气压对磁控溅射方法制备的Ni80Fe20磁性薄膜各向异性磁电阻的影响.实验发现基片温度是影响Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻最重要的因素.在较高的基片温度下,溅射气压对Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻也有较大的影响.基片温度在150～180 ℃,溅射气压在0.3～0.5 Pa范围内制备的Ni80Fe20薄膜有较大的各向异性磁电阻(3.7%～4.3%).

关键词：Ni80Fe20薄膜、各向异性磁电阻、基片温度、溅射气压

所属期刊栏目：27

分类号：O484;TB34(固体物理学)

在线出版日期：2007-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3-5,9