软X射线投影光刻技术及其发展(续)

摘要：

@@ 3.3反射式掩膜
为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜.由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软X射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制.在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤.

机标关键词：射线照射、投影光刻、掩膜技术、反射式、多层膜、特征尺寸、缺陷修复、光学系统、高反射率、热变形、高精度、损伤、能力、膜上、基片、复制

所属期刊栏目：22

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2004-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3-6