软X射线投影光刻技术及其发展

摘要：

软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展,所采用的新型光学系统由无污染激光等离子光源及高分辨率大视场投影光刻系统组成.该技术多采用无应力光学装调工艺、深亚纳米级的镜面加工和多层膜制备技术及低缺陷反射式掩模技术.该技术还采用表面成像光刻胶技术并涉及到精密扫描机构等技术.本文介绍了这一技术的发展历史、关键技术以及研究进展.

关键词：软X射线、投影光刻、光学系统

所属期刊栏目：22

分类号：O434.19(光学)

在线出版日期：2004-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：3-6