Ta/Al-Fe2O3薄膜电极的制备及其光电催化降解亚甲基蓝性能
采用简单的涂滴法制备出新型的Al、Ta共掺杂的三元铁氧化物(Ta/Al-Fe2O3)可见光响应型光催化薄膜。运用X射线光电子能谱(XPS)和紫外-可见(UV-Vis)光谱等手段对其进行了表征，考察了其光电化学性能，并研究了复合电极光电催化降解亚甲基蓝(MB)废水的反应性能。由表面谱学分析可知， Ta和Al成功掺入Fe2O3中， Ta会改变催化剂表面Al和O的化学环境。在可见光照射下的光电催化(PEC)反应中， Ta/Al-Fe2O3降解MB的反应速率约为Al-Fe2O3的2倍，光电催化共作用的效果优于单纯光催化作用(PC)和电催化(EC)作用的效果。结果表明， Ta掺杂有利于提高Ta/Al-Fe2O3薄膜的光电催化活性。
Ta/Al-Fe2O3、光电催化、可见光、亚甲基蓝、降解
O643(物理化学（理论化学）、化学物理学)
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2015-06-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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