利用钛保护层在ITO电极上直接制备大面积的超薄氧化铝膜
通过磁控溅射并引入钛保护层,利用在0.3 mol·L-1硫酸中20 V电压下二次阳极氧化,在氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上直接制备了超薄(约140 nm,为阳极氧化前AI厚度的一半)、大面积(约4 cm2)的多孔阳极氧化铝(AAO).扫描电子显微镜结果表明生成的微孔与衬底垂直,孔径和孔间距分别约为30和60 nm.我们发现钛保护层的作用是提高了AI层的附着性并且防止ITO被腐蚀,在此体系中钛不能被其它的金属如铬、金、银或铜代替.紫外-可见光谱透过率结果显示在阳极氧化过程中Ti被氧化成为透明的TiO2,利用10-20 nm的钛保护层以及二次阳极氧化过程,能够保证高透明度.在ITO 上直接制备的这种透明、有序的AAO纳米结构在光子学、光伏领域和纳米制备等方面具有潜在应用.
阳极氧化铝、薄膜、氧化铟锡透明电极、钛保护层、磁控射频溅射
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O646(物理化学（理论化学）、化学物理学)
The project was supported by the National Found for Fostering Talents of Basic Science NFFTBSJ0630311;National Natural Science Foundation of China10934001,60907015,10821062;National Key Basic Research Program of China 9732007CB307000,2009CB930504;国家基础科学人才培养基金J0630311;国家自然科学基金10934001,60907015,10821062;国家重点基础研究发展规划项目9732007CB307000,2009CB930504
2011-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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