纳米金属多层膜与多层纳米线的电化学制备及其表征
分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征,并对Cu/Co多层膜的巨磁阻性能进行了测试.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,采用TEM对多层纳米线进行了表征.
电沉积、纳米金属多层膜、金属多层纳米线、巨磁电阻(GMR)
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O646(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家自然科学基金50271046;教育部、天津大学校科研和教改项目
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
177-180