用 MS-TPSR技术研究甲烷部分氧化反应的引发过程

摘要：

借助质谱程序升温表面反应 (MS- TPSR)技术研究了 NiO/γ- Al2O3、 700 ℃ H2还原后的 Ni0/γ-Al2O3和添加 Pt的 NiO/γ-Al2O3催化剂 (分别记为 NiO、 Ni0和 Pt- NiO)上甲烷部分氧化反应 (POM)的引发行为 .结果表明，在 CH4＋ O2气氛下 NiO和 Ni0具有相同的引发行为， Ni0在反应气氛下首先被氧化为 NiO.在低于 760 ℃时， CH4和 O2在 NiO上发生深度氧化反应生成 H2O和 CO2，在 770 ℃开始逐渐引发 POM反应 . Pt-NiO在 520 ℃左右就能引发 POM反应 .在流化床反应器中 Pt-NiO催化剂 500 ℃左右引发 POM反应，并且具有与 Ni0基本相同的反应性能，因此添加 Pt有利于氧化镍还原为 Ni0，从而降低了 POM反应的引发温度 .

关键词：甲烷部分氧化、合成气、流化床、Ni催化剂

所属期刊栏目：17

分类号：O64(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：201-205