InP(110)解理面的能带弯曲
用XPS测得了真空解理后InP样品(110)表面能带弯曲的动态过程,并对引起InP表面能带弯曲的可能原因进行了讨论.排除了本征表面态、真空中残留气体和X射线辐射等原因,认为解理过程在表面产生的缺陷和解理后表面晶格弛豫产生的缺陷可能是导致能带弯曲的原因.
InP、能带弯曲、动态过程、XPS
O6(化学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
303-307
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InP、能带弯曲、动态过程、XPS
O6(化学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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303-307
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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