V2O5电致变色薄膜的Raman光谱

摘要：

@@ 近年来,通过向过渡金属氧化物薄膜注入Li+制作可调节光透过率的电变色器件已越来越引起广泛的重视[1、2].由于V2O5薄膜的稳定性差,限制了它在实际中的应用.因此,为了获得变色效率高、稳定性和可逆性能好的V2O5薄膜,使用了多种制备方法,如磁控溅射法[3、6]、电化学沉积法[7、8]、溶胶-凝胶法[9、10]、旋涂法[11、12]、真空蒸镀法[13、14]等.但是,无论那种方法都要解决V2O5本身在H2O或醇等的电解质溶液中电致变色时的溶解问题,通常采用控制薄膜的沉积温度或者退火处理来提高薄膜的电致变色性能[3、4、11].为了探明薄膜结构与电致变色特性的关系,我们用Raman光谱方法研究了真空蒸镀V2O5薄膜及其经不同温度退火处理后,电致变色过程中结构的变化.讨论了退火处理提高薄膜稳定性及变色特性的机理.

关键词：V2O5、真空蒸镀、退火、电致变色、Raman光谱

所属期刊栏目：15

分类号：O6(化学)

资助基金：中国科学院资助项目;中国科学院和中国科技大学创新项目59525205

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：279-283