10.3321/j.issn:0379-4148.2008.05.003
Si衬底对ZnO薄膜性能影响的研究
使用脉冲激光沉积(pulsed laser deposition, PLD)技术,采用两种不同纯度(99.5%和99.99%)的ZnO靶材,在p型Si衬底上制备了两种ZnO/Si薄膜.原子力显微镜与X射线衍射分析表明,两种样品具有相似的显微形貌与相同的晶体结构.霍尔效应测试发现,两种ZnO/Si薄膜都展现出了低电阻率、高迁移率的电学性能,但是其导电类型完全相反.研究结果表明,衬底的性能对霍尔效应测试有巨大影响.利用二次离子质谱仪,发现了在低纯度的样品中存在着S杂质向Si衬底中扩散的现象,并直接导致了衬底的导电性能的反型.
材料科学、ZnO薄膜、脉冲激光沉积、Si衬底、杂质元素S
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O4(物理学)
上海市重点学科建设项目B113
2008-07-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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