六方碳化硅中的深能级缺陷

摘要：

文章作者利用深能级瞬态谱(DLTS), 正电子湮灭谱(PAS)和光致荧光谱(PL)等谱分析技术研究了六方碳化硅中具有电活性的深能级缺陷. 这些深能级缺陷分别通过不同能量的电子辐照、中子辐照, 或氦离子注入等产生. 经过研究和分析各种实验测试的相关图谱,作者给出了六方碳化硅中一些重要的深能级缺陷在可控辐照条件下产生和退火行为的研究结果以及这些深能级缺陷相关结构的实验依据.

关键词：六方碳化硅、电子辐照、深能级缺陷、正电子湮灭

所属期刊栏目：33

分类号：TB3;TN3

资助基金：香港研究资助局和香港大学联合资助项目7085/01P

在线出版日期：2005-03-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：786-790