10.3321/j.issn:0379-4148.2004.10.002
Ge/Si(113)-(2×2)表面:自间隙原子引起的结构特征
基于对Ge在Si(113)上外延生长的扫描隧道显微学观察和第一性原理总能量和能带的计算,作者确定了Ge/Si(113)-(2×2)表面的结构.它是由沿[1-10]方向的反键增原子列和倾斜五聚体列交替排列而成.其中五聚体的形成是由于处于亚表面的自间隙原子的作用.这一发现说明自间隙原子的存在是(113)取向表面的固有属性.
Ge/Si(113)-(2×2)表面、外延生长、自间隙原子
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O4(物理学)
2004-12-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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