10.3321/j.issn:0379-4148.2004.07.004
面向产业需求的21世纪微电子技术的发展(下)
@@ 2.1.2新工艺
在新器件制备工艺技术方面,超浅结工艺、沟道掺杂工程是器件进入亚100nm领域后需要采用的新工艺技术.
产业、新工艺技术、超浅结工艺、器件制备、掺杂工程、沟道
33
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-09-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
480-487
点击收藏,不怕下次找不到~
10.3321/j.issn:0379-4148.2004.07.004
产业、新工艺技术、超浅结工艺、器件制备、掺杂工程、沟道
33
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-09-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
480-487
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn