面向产业需求的21世纪微电子技术的发展(下)

摘要：

@@ 2.1.2新工艺
在新器件制备工艺技术方面,超浅结工艺、沟道掺杂工程是器件进入亚100nm领域后需要采用的新工艺技术.

机标关键词：产业、新工艺技术、超浅结工艺、器件制备、掺杂工程、沟道

所属期刊栏目：33

分类号：TN4(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2004-09-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：480-487