10.3321/j.issn:0379-4148.2004.01.004
KH2PO4中电子或空穴辅助下的氢缺陷反应
研究了非线性光学晶体材料KH2PO4(KDP)中不同带电状态的H缺陷的稳定性及其反应.从而以清晰的物理图像描绘了KDP材料暴露在强紫外线或X射线下性能下降的原因.研究发现,对于H间隙原子,当增加一个电子时,H间隙原子与主H原子发生作用,形成间隙H2分子并产生一个H空位,而增加一个空穴时H间隙原子与临近的主O原子形成氢氧键,这两种带电态的H间隙原子均切断KDP 材料中形成网络的氢键;对于H空位,增加一个空穴将导致形成"过氧化氢"桥结构.这些结果在原子层次上清楚地解释了实验所建议的缺陷反应机制.
KDP、氢缺陷、缺陷反应
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O4(物理学)
国家自然科学基金10174082
2004-03-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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