10.3321/j.issn:0379-4148.2003.03.006
二维胶体晶体刻蚀法及其应用
二维胶体晶体刻蚀法合成二维有序纳米颗粒阵列具有操作简单、成本低、易于实现规模化的优点.它可方便地控制纳米颗粒阵列的形态(即颗粒的间距、尺寸、形状甚至成分等),从而实现阵列性质的大范围调制.而二维胶体晶体的合成是这种刻蚀技术的关键,文章着重介绍其形成的基本过程、影响因素及其合成技术;概述胶体晶体刻蚀技术的应用,并对此进行展望.
二维胶体晶体、刻蚀法、纳米颗粒阵列
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O4(物理学)
国家自然科学基金50271069
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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153-158