纳米光刻技术

摘要：

纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心.纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题.文章针对目前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题.详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及157光刻的原理和实现难点.作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现纳米量级的图形,但各种技术可实现的分辨力极限有所不同.50nm以上分辨力可以用193nm光刻结合波前工程和干涉光刻实现.50nm左右的分辨力可用极紫外光刻、157光刻和126nm光刻实现.而电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻则可望实现几个纳米的分辨力.但是这些技术的完善还有待于诸如光学系统、抗蚀剂、精密控制等等相关技术的成熟.文章还讨论了纳米光刻技术的应用前景.

关键词：纳米光刻、波前工程、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻、157光刻、126光刻

所属期刊栏目：29

分类号：O4(物理学)

资助基金：中国科学院资助项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：358-363,350