第九届全国表面与界面物理学术年会简讯

摘要：

@@ 第九届全国表面与界面物理学术年会于1999年10月30日至11月2日在杭州浙江大学举行.会议由中国物理学会表面与界面专业委员会主办,浙江大学物理系承办.来自全国40余所高等院校、科研机构的96位正式代表出席了本届会议,其中包括来自香港科技大学及香港城市大学的代表.会议共录用论文105篇,论文内容包括:表面原子结构与电子态、表面吸附与反应、超硬薄膜的表面界面研究、纳米材料及功能材料特性研究.会议共进行了16个大会特邀报告,85个口头报告.代表们的这些报告反映了两年来我国在表面与界面物理研究方面所取得的最新成果.更可喜的是,不少年轻人取得了非常出色的研究成果,给会议参加者留下了很深的印象,这充分表明在表面界面物理领域中后继有人,令老一辈科学家深感欣慰.

机标关键词：表面与界面、界面物理、学术年会、会议、浙江大学、香港科技大学、表面原子结构、口头报告、专业委员会、研究成果、物理研究、物理学会、特性研究、纳米材料、录用论文、科研机构、界面研究、功能材料、高等院校、超硬薄膜

所属期刊栏目：29

分类号：TN3;TQ0

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：250