10.15913/j.cnki.kjycx.2016.19.022
四氟化硅制备方法的专利研究
四氟化硅(SiF4)作为电子与半导体工业的一种重要原料,随着多晶硅等行业的快速发展,其需求量越来越大,对四氟化硅(SiF4)的制备提出了更高的要求.简要分析了四氟化硅(SiF4)的制备方法和我国本土的专利申请现状,以期为未来的研究提供更好的发展方向.
四氟化硅、制备方法、专利申请、电子与半导体工业
TQ127.2
2016-11-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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四氟化硅、制备方法、专利申请、电子与半导体工业
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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